鍍(dù)硬鉻加工經常會出現哪些(xiē)問題?
1.電流密(mì)度:硬鉻電鍍一般指(zhǐ)電及電鍍零件單位(wèi)面積表面通過(guò)的電流值,通常用A/dm2作為度(dù)量單位。
2.及化:通常指直流電(diàn)流通過電及(jí)時,電(diàn)及電位偏離其平衡電位(wèi)的現象。在(zài)電流作用下,陽及的(de)電及電位向正的方向偏移,稱為(wéi)陽及及化;陰及的電及電位(wèi)向負的(de)方向偏移,稱為陰及及化。
3.氫脆:零(líng)件在電化學除油、強(qiáng)侵蝕、硬鉻電鍍過程中,由于被還原後的(de)部分氫以原子氫的狀态滲入基體金屬或鍍層中形成應力(lì),使基(jī)體金屬及鍍層(céng)的韌性下降而産生(shēng)脆性的現象。
4.鍍層粗糙:由于主鹽濃度、鍍液(yè)pH值、溫度與電流密度等控制(zhì)不當,以及固體雜質過多,所造成的鍍層結晶粗大、細微不平的現象。
5.燒焦:由于主鹽濃度(dù)、鍍液pH值(zhí)、溫度與電流密度等控制(zhì)不當,造成鍍層呈海(hǎi)綿狀沉積、結晶粗大疏松(sōng)和發黑的現象。
6.針孔:由于(yú)鍍液中潤劑不足、pH值不正常以及有機雜質過多和(hé)鍍件表面(miàn)析氫等原因,造成鍍層産生(shēng)針尖般大小的孔隙的現象。
7.麻點:由于硬鉻電鍍鍍液(yè)中(zhōng)重金屬雜質或有(yǒu)機雜質過多、潤濕劑不足、pH值不正常等原因,造成鍍層出現細小凹坑、尖(jiān)凸或較大孔隙的現象。
8.起花:由于添加劑,尤其(qí)是光亮劑失調、有機雜質(zhì)太多(duō)、工序間清洗不(bú)良以(yǐ)及溫度與電流密度控制不當等原(yuán)因,造成鍍層色調不均勻、出現小塊灰白(bái)、發暗的現象。
9.起(qǐ)皮:由于鍍前處理不良、鍍液(yè)中雜質太多、pH值及電流密度(dù)控制不當等原因,造(zào)成(chéng)鍍層與基體結合不牢、鼓起或脫落(luò)的現象。
以上就是鍍硬(yìng)鉻加工常見的問題,歡迎閱讀了(le)解。